o-キシリレンジホスホン酸
o-キシリレンジホスホン酸 物理性質
- 融点 :
- 350 °C
- 沸点 :
- 614.3±65.0 °C(Predicted)
- 比重(密度) :
- 1.659±0.06 g/cm3(Predicted)
- 貯蔵温度 :
- Store at room temperature
- 外見 :
- powder to crystal
- 酸解離定数(Pka):
- 1.87±0.10(Predicted)
- 色:
- White to Light yellow to Light orange
- CAS データベース:
- 42104-58-5
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| RIDADR |
UN 3261 8/PG III |
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|
| HSコード |
2931.90.6000 |
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|
| 国連危険物分類 |
8 |
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|
| 容器等級 |
III |
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|
| 絵表示（GHS） |
|
| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H290 |
金属腐食のおそれ |
金属腐食性物質 |
1 |
警告 |
|
P234, P390, P404 |
| H314 |
重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 |
皮膚腐食性/刺激性 |
1A, B, C |
危険 |
|
P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501 |
|
| 注意書き |
| P234 |
他の容器に移し替えないこと。 |
| P260 |
粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。 |
| P264 |
取扱い後は皮膚をよく洗うこと。 |
| P264 |
取扱い後は手や顔をよく洗うこと。 |
| P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。 |
| P301+P330+P331 |
飲み込んだ場合：口をすすぐこと。無理に吐かせ ないこと。 |
| P303+P361+P353 |
皮膚（または髪）に付着した場合：直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。 |
| P363 |
汚染された衣類を再使用す場合には洗濯をすること。 |
| P390 |
物的被害を防止するためにも流出したものを吸収 すること。 |
| P501 |
内容物/容器を．．．に廃棄すること。 |
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o-キシリレンジホスホン酸 価格
もっと(2)
| メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
|
東京化成工業
|
X0075 |
o-キシリレンジホスホン酸 >97.0%(HPLC)(T)
o-Xylylenediphosphonic Acid
>97.0%(HPLC)(T) |
42104-58-5 |
200mg |
￥6900 |
2023-06-01 |
購入 |
|
東京化成工業
|
X0075 |
o-キシリレンジホスホン酸 >97.0%(HPLC)(T)
o-Xylylenediphosphonic Acid
>97.0%(HPLC)(T) |
42104-58-5 |
1g |
￥20700 |
2023-06-01 |
購入 |
o-キシリレンジホスホン酸 化学特性,用途語,生産方法
外観
白色～ほとんど白色粉末～結晶
o-キシリレンジホスホン酸 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
o-キシリレンジホスホン酸 生産企業
Global( 44)Suppliers
o-キシリレンジホスホン酸 スペクトルデータ(1HNMR)
42104-58-5(o-キシリレンジホスホン酸)キーワード:
- 42104-58-5
- o-Xylylenediphosphonic Acid
- 2-[(Phosphonomethyl)phenyl]methylphosphonic acid
- o-Xylylenediphosphonic Acid
- o-xylenediphosphonic acid
- (1,2-Phenylenebis(methylene))bis(phosphonic acid)
- (1,2-Phenylenebis(methylene))diphosphonic acid
- Phosphonic acid, P,P'-[1,2-phenylenebis(methylene)]bis-
- P,P′-[1,2-Phenylenebis(methylene)]bis[phosphonic acid
- o-キシリレンジホスホン酸