五氧化二鉭,分子式為Ta2O5,是鉭最常見的氧化物,也是鉭在空氣中燃燒生成的最終產物。其產生的薄膜的光譜透過波段為0.3~10um,是可見光到近紅外波段重要的高折射率材料之一,具有較高的折射率跟熱穩定性,和低吸收及耐化學腐蝕的優點。廣泛應用於製備多種光學元件的減反膜,高反膜,分光膜和干涉濾光膜。熔點接近1872℃,是一種高折射率的鍍膜材料,化學穩定性好且抗激光損傷能力強。主要使用於光學濾鏡的鍍膜。
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