所属分类:
High-K前驱体
分子式/简称: TEMAHf
CAS: 352535-01-4
分子量: 410.95 g/mol
外观和性状: 无色液体
饱和蒸汽压: 0.084 Torr @ 60℃
相对密度: 1.32 g/cm³
主要用于CVD和ALD的前驱体材料,用于沉积铪的前驱物,制备铪氧化物薄膜;可以用于COMS和下一代DRAM的高k绝缘材料,广泛应用于45nm下直至7nm技术等先进CMOS集成电路技术中。其应用于新型阻变/忆阻器件(RRAM)研究中,可展现良好的微缩特性,还可在10nm尺度下保持良好的阻变特性;在铁电存储器件(FeRAM)、铁电场效应晶体管(FeFET)、铁电负电容晶体管(NC-FET)、铁电隧道结等新功能器件制造方面表现出良好的微缩特性,为类脑型神经形态计算等变革性技术研究与发展提供新的途径。还可替代二氧化硅,作为金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)的栅极。
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