中文名:铬蚀刻剂
英文名:Chromium etchant
纯度:标准
货号:C476102
产品介绍:
硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。铬蚀刻剂是铬基溶液,可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s,可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。
应用
该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN,但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响用于室温或高温条件。蚀刻干净,省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意,应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。
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