三异丙基硅烷 6485-79-6

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阳离子清除剂：在肽合成过程中，三异丙基硅烷常被用作阳离子清除剂，用于去除氨基酸保护基团。
薄膜沉积：三异丙基硅烷可以用于等离子体增强原子层沉积（PEALD）工艺中，作为前驱体用于SiO2薄膜的生长。这种技术允许在低至50°C的温度下沉积不含碳杂质的SiO2薄膜。
合成二氮喹霉素：在合成二氮喹霉素的过程中，三异丙基硅烷用于双克诺尔环化反应，帮助获得纯二氮喹霉素H和J，同时防止末端异支链尾部在硫酸中异构化。
保护剂：三异丙基硅烷是一种合成位阻型有机硅保护剂的原料，主要用于保护各种类型的羟基，特别是在多官能羟基化合物中，可有选择地进行保护和脱保护。
其他化学合成：三异丙基硅烷还可以用于其他化学合成过程，例如作为中间体或试剂，参与各种有机合成反应。

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