二氧化硅纳米薄膜厚度标准物质

本标准物质主要用于薄膜厚度测量和表面化学分析（深度剖析）仪器设备的检定/校准、分析 方法的确认与评价、技术仲裁测量以及测量质量控制等。 

一、 样品制备 

本标准物质系通过原子层沉积技术在单晶硅基底上生长二氧化硅纳米薄膜成批制备而成，切割形成正方形片状样品（10mm×10mm×0.7mm）。 

二、 溯源性及定值方法 

本标准物质采用两种国际公认的不同原理方法（掠入射 X 射线反射测量和椭偏测量）进行定值， 以两种定值方法测量结果的总平均值作为标准值。通过使用满足计量学特性要求的测量方法和计量 器具，保证标准物质量值的溯源性。 三、 特性量值及不确定度

四、 均匀性及稳定性评估 

参照 JJF1343 国家计量技术规范（等效 ISO 指南 35），采用定值方法，按照随机抽样原则对样品 进行均匀性评估，评估结果表明样品均匀性良好；采用定值方法，对样品进行稳定性评估，评估结 果表明样品稳定性良好。 本标准物质自定值日期起有效期 3 年，研制单位将继续跟踪监测该标准物质的稳定性，有效期 内如发现量值变化，将及时通知用户。 

五、 包装、贮存及使用 

本标准物质固定放置在氟化聚丙烯圆盒中，圆盒真空密封包装于铝箔袋内，每盒 1 片。贮存在 阴凉干燥的室温环境条件下，运输过程中必须保持包装的完整，使用过程中必须保持样品表面清洁。