技术标准
草酸含量:一般要求H2C2O4∙2H2O含量≥99.5%。
杂质含量:硫酸根(SO42−)%≤20ppm,钙(Ca2+)%≤1ppm,铁(Fe3+)%≤1ppm,钠(Na+)%≤1ppm,钾(K+)%≤1ppm,氯化物(Cl−)%≤1ppm,钡(Ba2+)%≤1ppm。
应用领域
半导体行业:用于清洗硅片表面的金属离子和有机物残留,是半导体制造中 RCA 清洗工艺的关键试剂,还可用于钽电容、铝电解电容生产中作为阳极氧化液,形成均匀氧化膜,提高元件绝缘性和稳定性。
电路板制造:在印刷电路板(PCB)制造中,用于铜箔表面蚀刻,形成精细电路图案,还可用于电路板清洗和表面处理1。
显示器制造:作为重要的清洗剂,能够有效去除显示屏幕上的污渍和杂质,保证画面的清晰度和色彩还原度1。
市场发展
规模与增长:近年来,中国电子级草酸市场规模持续扩大,2025 年中国电子级草酸市场规模预计达到 28.6 亿元,年复合增长率维持在 12.3% 左右,预计到 2030 年市场容量突破 54 亿元,2025-2030 年复合增长率(CAGR)达 13.5%。
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