Hydroxyboron Nitride，羟基氮化硼300-500nm

羟基氮化硼（300-500nm）是一种由六方氮化硼（h-BN）表面修饰羟基（-OH）形成的功能化纳米材料，其粒径范围在300至500纳米之间。

材料特性

1. 光学特性：

• 紫外吸收：在300-400nm范围内，羟基氮化硼可能呈现较强的紫外吸收，这归因于其带隙及表面羟基的电子跃迁。

• 荧光发射：部分羟基氮化硼衍生物在400-500nm可见光区可能显示荧光特性，可用于荧光标记或光学传感。

• 散射特性：纳米级羟基氮化硼颗粒在300-500nm波段可能具有光散射效应，影响其透射率与反射率。

2. 物理化学性质：

• 热稳定性：羟基氮化硼继承了六方氮化硼的优异热稳定性，能够在高温下保持结构和性能的稳定。

• 化学稳定性：对多种化学腐蚀具有一定的抵抗能力，适用于特殊环境下的应用。

• 分散性：经过羟基化改性后，羟基氮化硼在水和聚合物中的分散性得到显著改善，这极大地拓展了其在聚合物中的应用潜力。

3. 表面修饰调控：

• 通过改变羟基化条件（如反应温度、氧化剂浓度），可以调整材料的光学带隙，从而优化其荧光性能或紫外吸收特性。

温馨提示：供应产品仅用于科研，不能用于人体！

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