氧化铝抛光液KND-LP30是一种以氧化铝(Al₂O₃)为主要磨料的抛光材料,广泛应用于金属、半导体、光学、陶瓷、磷化铟、光纤芯片等领域的表面精抛处理。其核心功能是通过物理研磨和化学协同作用,实现高精度、低损伤的表面抛光产品参数产品型号:KND-LP30产品外貌:白色液体粒径:100nm固含量:30%晶型:α相本型号产品适用于磷化铟、芯片光纤、精抛类产品
核心特点
1.高硬度与切削力
氧化铝莫氏硬度达9级,仅次于金刚石,可高效去除硬质材料(如蓝宝石、碳化硅)的表面缺陷,同时保持低磨损率。
2.高精度与低损伤
纳米级氧化铝颗粒可实现原子级平整度(Ra<0.1nm),适用于半导体晶圆、光学镜片等对表面质量要求极高的领域。
3.化学-机械协同作用
通过调节pH值,氧化铝抛光液KND-LP30可在研磨过程中同步发生轻微化学腐蚀,降低机械应力,减少划痕和亚表面损伤。
4.成本效益
相比金刚石抛光液,氧化铝成本更低,且在硬质材料抛光中效率更高,综合成本优势显著。
5.环保与稳定性
现代氧化铝抛光液多采用水基配方,无毒无害,且通过分散剂技术实现长期稳定性,减少沉淀和团聚。
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