正性光刻胶关键组分
与线性酚醛树脂(Novolac)复配,构成经典 g 线 /i 线正胶体系。未曝光时,它能抑制树脂在显影液(如碱液)中的溶解;曝光后发生 Wolff 重排生成烯酮,进一步水解为羧酸,大幅提升涂层在碱液中的溶解性,实现图形转移。
适配半导体芯片制造、印刷电路板(PCB)图形化、液晶显示(LCD)面板像素与电极制备等场景,满足高精度微细加工需求。
光敏材料合成中间体
可用于制备其他萘醌二叠氮(DNQ)类光敏剂,或作为活性组分引入到感光树脂、光刻胶添加剂中,调控体系的光敏性、分辨率与对比度。
平版印刷版感光组分
用于制备正性感光平版印刷版,曝光后可形成亲油 / 亲水的版面差异,适配印刷行业的高精度制版需求。
陕西缔都医药有限责任公司
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