双(环己磺酰基)重氮甲烷

核心应用与机理

1. 化学放大光刻胶 PAG 核心组分

• 曝光后释放重氮基团，分解生成磺酸（如环己基磺酸），该酸可催化光刻胶中树脂的脱保护反应（如叔丁氧羰基脱保护），引发涂层溶解性急剧变化，实现图形转移。

• 适配 DUV（248 nm KrF、193 nm ArF）光刻工艺，用于半导体芯片制造、先进封装、显示面板与 PCB 的高精度图形化，可提升光刻胶的分辨率、对比度与工艺窗口。常与含酸敏感保护基的树脂（如聚对羟基苯乙烯衍生物）、交联剂等复配使用。

2. 有机合成反应试剂

• 可作为高效的甲基化试剂，用于羧酸、酚类等化合物的甲基化，反应条件温和、副产物少，适合贵重或敏感底物的修饰；也能参与环加成、重排等反应，合成特定环状或杂环化合物。

3. 底部抗反射涂层（BARC）光敏组分

• 用于制备光刻用底部抗反射涂层，曝光产酸可辅助涂层交联或分解，降低光刻过程中的反射干扰，提升图形质量。

4. 感光材料合成中间体

• 可用于制备其他磺酰基重氮甲烷类 PAG，或作为活性单元引入感光树脂、光刻胶添加剂，调控体系光敏性与稳定性。