分子量:692.414 g/mol外观:白色或类白色粉末
1. 高纯度控制:采用电子级精制工艺,确保产品杂质含量极低,满足半导体光刻工艺的高洁净要求。
2. 优异溶解性:可溶于多种常见光刻胶溶剂(PGMEA、酮类溶剂等),利于均匀分散。
3. 稳定性好:在室温及标准储存条件下具有良好的化学和热稳定性,不易降解。
应用领域
1. 半导体制造
(1)先进光刻胶(KrF、ArF、EUV光刻胶)光酸发生剂
(2)高分辨率、低LWR(Line Width Roughness)图形制备
2. 显示面板制造
(1)彩膜(Color Filter)光刻胶
(2)TFT-LCD/AMOLED工艺用光敏材料
3. 高端微电子材料
(1)MEMS、IC封装用光敏聚合物
(2)光学涂层、微纳米结构加工
陕西德莱维特生物科技有限公司
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吴经理