二氧化硅的物理性质：无色透明晶体或无定形粉末，无味。熔点为1710℃（方石英），1670℃（鳞石英）；沸点为2230℃。无定形粉末能与碱起作用，物理和化学性质稳定，易成型，本身惰性，熔融物呈层状，加热时膨胀系数小。
二氧化硅的化学性质：几乎不溶于水郓普通酸，能溶于氢氟酸生成氟化硅气体，缓慢地与热浓磷酸作用。
以正硅酸乙酯为原料，首先将其进行高效精馏，收集160～168℃的馏分。然后，将正硅酸乙酯与氨水混合加热，反应物由浑浊到黏稠状，直至溶液沸腾。停止搅拌，将该溶液静置沉淀，并进行离心分离后，在低温下干燥一定时间。最后，在900℃灼烧，自然冷却得到产物。
掩蔽膜和保护层：在晶体管和集成电路中作杂质扩散；作为填料用于环氧铸塑、光导纤维、涂料等领域；用于制造玻璃、发射光谱分析试剂、固体电路生产中扩锑时控制锑浓度等方面。
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张经理