氧化硅抛光液 MYH SOP05
一、产品简介
MYH SOP05 是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型 CMP 抛光耗材。产品以5nm 单分散球形纳米 SiO₂为磨料，采用稳定碱性水性体系，经多级纯化、精密分散与颗粒调控工艺制成，专为半导体、光学、显示面板、蓝宝石等材料的纳米级超精密抛光设计。
其突出特点是低缺陷、高洁净、高平坦、易清洗，可实现原子级表面光洁度，广泛用于各类硬脆材料的精抛工序，性能对标进口氧化硅抛光液，性价比与供货稳定性优势明显。
二、核心产品参数
· 产品型号：MYH SOP05
· 外观：半透明液体，无沉淀、无分层
· 核心磨料：纳米胶体二氧化硅（SiO₂）
· 一次粒径nm：3-10 nm
· pH 值（25℃）：9.5-10.5
· 包装：1kg/桶，9kg/箱
· 保质期：未开封 6 个月
三、产品特点
1. 超精密低缺陷抛光
5nm 超细粒径 + 单分散球形颗粒，抛光后表面粗糙度 Ra≤0.2 nm，无划痕、麻点、橘皮纹，亚表面损伤极低，适合终抛镜面加工。
2. 超高纯度与高洁净度
多级纯化工艺，重金属离子含量极低，可有效避免半导体、光学器件的离子污染；不含氯、硫、磷及 VOC，环保安全。
3. 分散稳定、工艺友好
体系稳定性强，长期存放不沉降、不团聚，适合自动化连续产线使用；化学作用温和，去除速率稳定可控，不易过抛。
4. 易清洗、无残留
水性体系亲和性好，抛后工件易冲洗，无磨料残留，不影响后续镀膜、键合、封装等工序。
5. 通用性强、适配广泛
可原液使用或轻度稀释使用，兼容聚氨酯垫、麂皮垫等多种抛光垫，适配多类硬脆材料精抛。
6. 国产替代、高性价比
性能对标 5nm 氧化硅抛光液，成本更低，交期稳定，支持批量供货与参数定制。
四、应用领域
· 半导体微电子
硅晶圆精抛、ILD 层间介质 CMP、化合物半导体（GaAs、InP 等）抛光、光掩模精抛。
· 光学元件
光学镜头、棱镜、滤光片、光纤连接器、激光晶体、石英元件的超精密镜面抛光。
· 显示与消费电子
LCD/OLED 玻璃基板、手机盖板玻璃、摄像头玻璃、手表镜面精抛。
· 蓝宝石与晶体材料
蓝宝石衬底、窗口片、铌酸锂、钽酸锂等晶体精抛。
· 精密陶瓷与硬脆材料
氧化铝 / 氧化锆陶瓷、陶瓷轴承、密封件、硬盘盘片精抛。
五、使用建议
· 推荐使用方式：原液直接精抛，高要求场景可 1:1～1:3 去离子水稀释。
· 适配抛光垫：精抛聚氨酯垫、麂皮垫、高密度无纺布垫。
· 后处理：抛后用去离子水或中性清洗剂冲洗，超纯水漂洗干燥。
· 储存：5–35℃密封避光保存，避免冻结与高温暴晒.
关键字： 氧化硅抛光液;
铭衍海（常州）微电子有限公司，注册品牌：“MYHMICRO”，深耕精细抛光材料领域，聚焦半导体、光学器件、精密五金等高端制造场景，专注各类精密抛光液的研发、生产与定制化供应，以高纯度、高稳定性的抛光解决方案，赋能客户产品表面精度升级。
公司核心产品线覆盖全系列精细抛光液，包含氧化铝抛光液、氧化锆抛光液、氧化铈抛光液、二氧化硅抛光液、金刚石抛光液、碳化硅抛光液等多款主力产品，可精准适配不同基材、不同抛光需求：从硬质材料的高效去纹到软质材料的镜面精抛，从光学元件的低损伤抛光到半导体器件的原子级平整处理，均能提供匹配工艺的专用抛光液，兼顾抛光效率与表面光洁度。
依托成熟的磨料分散技术与配方优化能力，公司产品具备颗粒分布均匀、悬浮稳定性强、无残留无损伤的核心优势，已广泛应用于半导体晶圆、光学镜头、精密模具、消费电子等领域。未来，铭衍海微电子将持续聚焦抛光技术迭代，以定制化服务满足客户差异化需求，致力于成为高端精细抛光液领域的可靠合作伙伴。