氧化铝抛光液 MYH-APS80
一、产品简介
氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。
精准抛光，低损高效。
本品核心为“纳米级抛光”，以纳米氧化铝磨料实现原子级修整（Ra达纳米级），可：
1. 获得镜面光洁度，满足高端装配需求；
2. 减少表面缺陷，延长工件寿命；
3. 兼顾效率与低损伤，适配自动化量产。
二、铭衍海氧化铝抛光液 MYH-APS80 产品特点
粒度精准：300-400nm α-氧化铝磨料，粒径分布窄，纳米级均匀去除，无划痕、光洁度一致。
切削护材兼顾：莫氏硬度约9级，高效切削且不划伤精密脆弱基材。
悬浮稳定：专有分散技术，磨粒不沉淀不团聚，轻微摇匀即可使用，保障抛光一致性。
环保易清洗：水性配方，无毒无重金属，纯水可冲净，无残留无二次污染。
适配性强：弱碱性可调，不腐蚀多种基材，适配手动/自动化设备，可按需调浓度、pH值。
高效耐用：抛光效率高，废液过滤补新液可循环3-5次，降低使用成本。
三、铭衍海氧化铝抛光液 MYH-APS80 应用范围
本品用于各类精密器件抛光，核心是去损伤、提光洁度、保精度，适用领域：
光通信领域：光纤连接器、光模块插针、光学窗口片等低损伤抛光。
半导体与电子领域：硅片、半导体衬底、消费电子精密结构件高光抛光。
光学器件领域：光学镜头、蓝宝石衬底等超光滑抛光，保障透光与成像质量。
精密金属与陶瓷领域：各类合金镜面抛光、精密陶瓷表面精整。
其他高端领域：宝石、石英制品抛光，航空航天、医疗器械零部件表面处理。
四、常见类型
MYH系列覆盖全流程：
1. 粗抛液：大粒径，去粗加工痕迹，适用于前道粗磨。
2. 中抛液：平衡切削与光洁度，消除粗抛痕迹，为精抛铺垫。
3. 精抛液：小粒径，降粗糙度，实现准镜面，适用于中端终抛。
4. 超精抛液如MYH-APS80：纳米级，高端终抛，实现原子级镜面，适配光通信、半导体领域。
五、储存与使用
温度：5℃~30℃，防冻（<0℃失效）、防高温（>35℃变质）。
使用前：摇匀5-10分钟；用去离子水稀释（按需调整）。
储存：密封避光、阴凉干燥存放，直立放置并定期轻摇；未开封保质期6个月，开封后1个月内用完。
操作：滴加供液，避免干磨；佩戴防护手套、保持通风；工件需自来水+去离子水冲洗后吹干，防水渍。
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铭衍海（常州）微电子有限公司，注册品牌：“MYHMICRO”，深耕精细抛光材料领域，聚焦半导体、光学器件、精密五金等高端制造场景，专注各类精密抛光液的研发、生产与定制化供应，以高纯度、高稳定性的抛光解决方案，赋能客户产品表面精度升级。
公司核心产品线覆盖全系列精细抛光液，包含氧化铝抛光液、氧化锆抛光液、氧化铈抛光液、二氧化硅抛光液、金刚石抛光液、碳化硅抛光液等多款主力产品，可精准适配不同基材、不同抛光需求：从硬质材料的高效去纹到软质材料的镜面精抛，从光学元件的低损伤抛光到半导体器件的原子级平整处理，均能提供匹配工艺的专用抛光液，兼顾抛光效率与表面光洁度。
依托成熟的磨料分散技术与配方优化能力，公司产品具备颗粒分布均匀、悬浮稳定性强、无残留无损伤的核心优势，已广泛应用于半导体晶圆、光学镜头、精密模具、消费电子等领域。未来，铭衍海微电子将持续聚焦抛光技术迭代，以定制化服务满足客户差异化需求，致力于成为高端精细抛光液领域的可靠合作伙伴。