微观凸起优先吸附:在微观粗糙的电极表面,凸起部位的电流密度比凹下部位高。整平剂会优先吸附在电极表面的微观凸起部位,因为这些部位的电场强度较大,更有利于整平剂分子的吸附。
抑制凸起处金属沉积:当整平剂吸附在凸起部位后,会增加该部位的电极反应阻力,从而抑制金属离子在这些地方的还原沉积反应。相比之下,凹下部位的吸附量较少,金属离子仍能相对顺利地在凹下部位沉积。
实现表面整平:随着电镀过程的进行,凹下部位的金属沉积速度相对较快,而凸起部位的沉积速度受到抑制,逐渐使得表面的微观不平度减小,最终达到整平的效果。
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