精确质量:245.9793
PSA:28.68
LogP:3.31
折射率:1.748
蒸气压:0.0±1.0 mmHg at 25°C
分子为稠环芳香杂环结构,含吲哚环、吡啶环以及芳基溴取代基;环上 N-H 具有弱酸性,可与强碱反应成盐;芳环上溴原子可发生 Suzuki 偶联等亲核取代反应。稠芳香环具有芳香性,可发生亲电取代反应。该共轭杂环对光照敏感,遇强氧化剂易氧化变质。常温干燥条件下稳定,需避光保存,避免强氧化剂、强酸强碱环境。
有机合成砌块,用于药物研发、激酶抑制剂等小分子化合物合成,仅科研小试使用,无工业大宗生产。
储存条件:密封,干燥避光保存。
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