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网站主页> 化工产品目录>有机原料>有机金属类化合物>有机铋、钴、镨、钆、镓、铱、铼、钇、铽等>四(二甲胺基)鉿
共找了8条相关产品
四(二甲胺基)鉿

四(二甲胺基)鉿

  • 中文名称：四(二甲胺基)鉿
  • CAS No.：19782-68-4
  • 分子式：C8H24HfN4
  • 分子量：354.79
  • 产品类别： 胺基金属
  • 中文别名：四(二甲胺基)铪(IV);四(二甲氨基)铪;四(二甲胺基);四(二甲胺基)鉿;四(二甲氨基)铪(IV);四(二甲胺基)铪;四(二甲基氨基)铪;四(二甲基氨基)铪(IV)
  • 用途： 四(二甲胺基)铪(TDMAH)化合物是一类越来越受到关注的材料，用来沉积铪的先驱物。铪氧化物薄膜是很可能用于COMS和下一代 DRAM中的候选高介电常数(高k)绝缘层材料。
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四(二甲胺基)铪(IV)
四(二甲胺基)铪(IV)
包装：25KG/纸桶
纯度规格：98
产地：
更新日期：2026/06/24
四(二甲胺基)铪(IV) 中文名称 四(二甲胺基)铪(IV) 英文名称 TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV), 中文别名 CAS RN 19782-68-4 分 子 式 C8H24HfN4 分 子 量 354.793 用　　途 化工助剂
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武汉弘德悦欣医药科技有限公司
公司：武汉弘德悦欣医药科技有限公司
电话：027-83855391
联系人：吴滨
邮件：hbzlkschem2009@163.com
地址：武汉市江岸区兴业路136号（黄浦科技园）工业厂房（二期）1栋18车间1号房-C43
网址：https://www.chemicalbook.com/supplier/15361341/
19782-68-4；四(二甲胺基)鉿
19782-68-4；四(二甲胺基)鉿
包装：25Kg
纯度规格：99.9%
产地：宝鸡
更新日期：2026/06/24
四（二甲胺基）铪所属分类：High-K前驱体分子式/简称： TDMAHfCAS： 19782-68-4分子量： 354.79 g/mol外观和性状： 白色结晶固体饱和蒸汽压： 1.04 Torr @ 60℃相对密度： 1.40 g/cm³宝鸡市福诺康实业有限公司位于中国有色金属之城宝鸡，公司依托自身的研发能力和周边高校及科研院所密切合作，以开发研制贵金属催化剂为主，集科研、生产于一体的高新科技企业...
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宝鸡福诺康实业有限公司
公司：宝鸡福诺康实业有限公司
电话：0917-3236817
联系人：丁海峰
邮件：1754423088@qq.com
地址：马营镇钛城路郭家村四组19号
网址：https://www.chemicalbook.com/ShowSupplierProductsList833244/0.htm
四(二甲胺基)铪(IV)
四(二甲胺基)铪(IV) 黄金产品
包装：1g
产地：
更新日期：2026/06/15
▼▲ H64174 19782-68-4 MFCD01862473 Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) 四(二甲胺基)铪(IV) 99%(99.99+%-Hf)
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安徽敦茂新材料科技有限公司
公司：安徽敦茂新材料科技有限公司
电话：13275595566
联系人：赵女士
邮件：domole@infsci.com
地址：安徽省安庆市大观区凤凰科技园4号楼
网址：http://www.domole.com
四（二甲胺基）铪
四（二甲胺基）铪 工厂
包装：1kg
纯度规格：99%
产地：安徽
更新日期：2026/06/14
四（二甲氨基）铪是一种重要的金属有机化合物。它为对空气和水分极其敏感的淡黄色液体，必须在惰性气氛下严格密封保存。该化合物是原子层沉积工艺的关键前驱体，主要用于制备高性能的铪基薄膜，特别是高介电常数（高-k）的氧化铪。在先进半导体制造中，氧化铪薄膜作为栅极介质，成功替代传统二氧化硅，极大地减小了晶体管的漏电流和功耗。其无卤素、高反应活性的特性，使其成为制造纳米级芯片不可或缺的核心原料之一。
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安徽至善新材料有限公司
公司：安徽至善新材料有限公司
电话：0554-2114112
联系人：魏开举
邮件：tokind@tokindchem.com
地址：潘集区平圩镇煤化工园区煤化工大道
网址：http://www.tokind-mater.com
四（二甲氨 基）铪 CVD/ALD材料
四（二甲氨 基）铪 CVD/ALD材料
包装：50g
纯度规格：99.999%
产地：上海
更新日期：2026/04/14
1.原子层沉积（ALD）与化学气相沉积（CVD）前驱体‌用于在基底材料上沉积‌高介电常数（high-k）的氧化铪（HfO₂）薄膜‌，替代传统二氧化硅（SiO₂）作为晶体管栅极介质，有效减少漏电流和功耗，适用于‌45nm及以下先进CMOS工艺‌‌2.半导体器件制造‌用于‌DRAM、RRAM（阻变存储器）、FeRAM（铁电存储器）、FeFET（铁电场效应晶体管）‌等新型存储器件的绝缘层或功能层制备‌在...
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上海偲妍新材料科技有限公司
公司：上海偲妍新材料科技有限公司
电话：
联系人：刘佳林
邮件：229555432@qq.com
地址：沈砖路5100号
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19782-68-4；四(二甲胺基)鉿
19782-68-4；四(二甲胺基)鉿 黄金产品
包装：25千克/桶
纯度规格：99.99%
产地：
更新日期：2025/09/11
四(二甲胺基)鉿物理化学性质密度1.098g/mLat 25°C沸点6.1ºC at 760 mmHg熔点26-29ºC(lit.)分子式C8H24HfN4分子量354.79300闪点109 °F精确质量356.14700PSA12.96000LogP0.04920外观性状crystal | colorless to pale yellow
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陕西缔都医药化工有限公司
公司：陕西缔都医药化工有限公司
电话：029-61856359
联系人：李经理
邮件：1018@dideu.com
地址：陕西省宝鸡市凤翔区长青工业园区
网址：http://www.dideu.cn
四(二甲胺基)铪-电子级ALD/CVD前驱体源
四(二甲胺基)铪-电子级ALD/CVD前驱体源
包装：25g
纯度规格：99.9999%
产地：江苏
更新日期：2024/08/14
对于栅介质层，由于其厚度一般在10nm以下，ALD技术成为制备栅介质层的首选，已经用于Intel 45nm节点的MOS管的制备过程中。相较于CVD、PVD，ALD可以原子级厚度水平控制膜层的沉积，存储介质可通过ALD或CVD技术制成，而ALD具有优越的阶梯覆盖能力，在高深宽比的DRAM中其应用将不断增加。 本公司提供和开发CVD/ALD所需的前驱体源，包括可用于沉积高k栅介质层HfO₂、用于存...
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苏州龙扬生化科技有限公司
公司：苏州龙扬生化科技有限公司
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联系人：龚云龙
邮件：sales@ly-biochem.com
地址：张家港市锦丰镇兴业路2号
网址：http://ly-biochem.com/
四（二甲胺基）铪
四（二甲胺基）铪
包装：5 g
纯度规格：99.9995%
产地：
更新日期：2018/12/13
MSDS 1、紧急情况概述 接触水时剧烈反应并放出大量热量，灼伤身体组织，且有毒性，会对人体造成损伤 2、操作及贮存 操作：在惰性气体中进行操作 贮存：贮存在惰性气体中或是完全密封的容器中，存放在通风良好的地方 3、急救措施 如不慎接触到，在使用大量清水冲洗后，需立即送医；如不慎误食或吸入，需立即送医救治 4、消防措施 使用二氧化碳或沙粒进行灭火，不可使用水或泡沫灭火进行灭火
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苏州复纳电子科技有限公司
公司：苏州复纳电子科技有限公司
电话：0512-58795337
联系人：叶文
邮件：1240494716@qq.com
地址：张家港市国泰北路1号H栋4楼
网址：http://www.fornano.cn
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