10097-28-6

中文名称一氧化硅

英文名称 Silicon monoxide

CAS 10097-28-6

EINECS 编号 233-232-8

分子式 H2OSi

MDL 编号 MFCD00151536

分子量 46.1

MOL 文件 10097-28-6.mol

更新日期 2025/05/18 10:33:12

10097-28-6 结构式

基本信息物理化学性质安全数据应用领域制备方法上下游产品信息化学品安全说明书(MSDS) 常见问题列表图谱信息知名试剂公司产品信息一氧化硅价格(试剂级)

基本信息

中文别名

一氧化硅
氧化亚硅溅射靶
一氧化硅微粉末
氧化硅
氧化亚硅溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THIC
氧化亚硅溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THIC
氧化亚硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THIC
氧化亚硅溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THIC
一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.5% (METALS BASIS)
一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.8% (METALS BASIS)
一氧化硅, 99.99% (METALS BASIS)
一氧化硅, 99.9% (METALS BASIS)
一氧化硅, OPTICAL GRADE, 99.7% (METALS BASIS)

英文别名

SILICON (II) OXIDE
SILICON MONOXIDE
SILICON OXIDE, MONO
Monox
oxo-silylen
Silylene, oxo-
SiO
silicon monooxide coating quality balzers
silicon monoxide coating quality balzers
SiliconIIoxidegranularmeshbrownpowder
SiliconIIoxidemeshbrownpowder
Siliconmonoxidepowder
Siliconoxideopticalgrade
Silicon(Ⅱ) oxide
Silicon monoxide, pieces, 3-10mm, 99.99% metals basis
SILICON MONOOXIDE COATING QUALITY UMICORE, 0.2-0.7 MM
SILICON MONOXIDE COATING QUALITY UMICORE, 3.5-5 MM
SILICON MONOXIDE, GRANULE, -10MM +10 MES H
SILICON MONOXIDE, POWDER, -325 MESH
Silicon(II) oxide, optical grade, 99.7%

所属类别

无机化工产品: 无机盐: Cn硅化合物及硅酸盐

物理化学性质

外观性状白色立方体或黄土色无定形粉末，在空气中热处理时，黄土色粉末变成白色粉末。熔点大于1702℃。沸点1880℃。相对密度2.13。不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。

熔点1870 °C

沸点1880°C

密度2.13 g/mL at 25 °C(lit.)

折射率1.9800

闪点1880°C

形态powder

比重2.13

颜色黑色

水溶解性Insoluble in water.

水解敏感性1: no significant reaction with aqueous systems

Merck14,8496

稳定性稳定的。

CAS 数据库10097-28-6(CAS DataBase Reference)

NIST化学物质信息Silicon monoxide(10097-28-6)

EPA化学物质信息Silylene, oxo- (10097-28-6)

安全数据

危险性符号(GHS) GHS hazard pictograms

GHS07

警示词警告

危险性描述H315-H319-H335

防范说明P261-P264-P271-P280-P302+P352-P305+P351+P338

危险品标志Xi

危险类别码R36/37/38

安全说明S26-S36

WGK Germany3

TSCAYes

应用领域

用途一

用作光学玻璃和半导体材料的制备

用途二

一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。

用途三

作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。

制备方法

方法一

将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合，C/SiO2混合摩尔比为2.0，混合物经减压加热处理，其温度为1600℃，压力为1.013 kPa，经还原反应生成SiO蒸气，通入氩气，将SiO蒸气凝结输送，制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
SiO2+C→SiO+CO

上下游产品信息

上游原料

氩二氧化硅煤沥青

下游产品

铝酸钠硅树脂

化学品安全说明书(MSDS)

MSDS 信息Silicon monoxide(10097-28-6).msds

常见问题列表

概述

一氧化硅，白色立方系晶体或棕色粉末，不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸混合液，与沸苛性碱溶液作用生成硅酸盐和氢气，能被卤素氧化，在空气中表面易氧化生成二氧化硅保护膜而变得无活性，高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等物质还原；工业上常由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华制得；常用于制备光学玻璃和半导体材料。

理化性质

白色立方系晶体或棕色粉末。熔点高于1702℃，沸点1880℃，相对密度2.13。硬度与硅相似。红热时也不导电。溶于稀的氢氟酸和硝酸的混合液，亦溶于浓碱溶液，并放出氢生成硅酸盐。不溶于水。在空气中表面易氧化生成二氧化硅保护膜而变得无活性。在高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等还原。 300～400℃时与卤素反应。只有在高于1500℃时才能稳定存在。低于1500℃时按下式反应分解。
2SiO=Si+SiO2

制备方法

1.由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华而得。
SiO2+Si=2SiO

图1为一氧化硅合成工艺流程图
2.由碳和过量的二氧化硅加热到2000℃左右后升华而得。
SiO2+C=SiO+CO
3.在高温下用氢气还原二氧化硅，再经真空升华而制得。
H2+SiO2=SiO+H2O

用途

用于制光学玻璃和半导体材料。
有关一氧化硅的概述、理化性质、制备方法、用途是由Chemicalbook的丁红编辑整理（2015-11-16）

图谱信息

一氧化硅(10097-28-6)红外图谱(IR1)

知名试剂公司产品信息

Alfa Aesar

一氧化硅,OpticalGrade,99.8%(metalsbasis)
Silicon(II) oxide, Optical Grade, 99.8% (metals basis)(10097-28-6)

Sigma Aldrich

10097-28-6(sigmaaldrich)

一氧化硅价格(试剂级)

报价日期	产品编号	产品名称	CAS号	包装	价格
2025/05/22	089430	一氧化硅(II), 光学级, 99.8% (metals basis) Silicon(II) oxide, Optical Grade, 99.8% (metals basis), Thermo Scientific Chemicals	10097-28-6	50g	566元
2025/05/22	089430	一氧化硅(II), 光学级, 99.8% (metals basis) Silicon(II) oxide, Optical Grade, 99.8% (metals basis), Thermo Scientific Chemicals	10097-28-6	250g	2333元
2025/05/22	041711	一氧化硅(II), 99.9% (metals basis) Silicon(II) oxide, 99.9% (metals basis), Thermo Scientific Chemicals	10097-28-6	100g	738元