概述
2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基苯基醚是一种化学式为C14H10F6N2O，分子量为336.23的有机化合物，英文名称为2,2'-Bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether，简称6FODA。该物质的稳定性较高，一般表现为白色固体或粉末。得益于独特的化学结构，2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基苯基醚常被用作制备聚酰亚胺材料。
应用
为了解决不能使用聚酰亚胺树脂熔融加工的方式制备透明聚酰亚胺薄膜的问题，文献报道了一种聚酰亚胺树脂和一种透明聚酰亚胺薄膜的制备方法。聚酰亚胺树脂和聚酰亚胺薄膜包括结构单元a，b，c和d（如下图），聚酰亚胺薄膜的合成单体包括二酐和二胺，二酐单体包括三苯二醚四甲酸二酐，4,4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐；二胺单体包括2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基苯基醚，4,4'-二氨基-2,2'-双三氟甲基联苯。该发明提供的聚酰亚胺薄膜通过聚酰亚胺树脂熔融挤出的方法制备，也可以通过常见的流延法制备，所得透明聚酰亚胺薄膜具有透光率高，机械性能好，耐热性高，加工性好等特点[1]。
此外，文献还公开了一种用于有源矩阵有机发光显示器的无色透明聚酰亚胺膜，解决了CPI膜在该高温下变色不再透明及尺寸稳定性低的问题。具体地，其由混合二胺和混合二酐缩聚而成，亚胺化拉伸而制得CPI薄膜。其中，混合二胺为2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基苯基醚，2-氯-4,4'-二氨基苯酰替苯胺；4,4'-双(3-氨基苯氧基)二苯基砜；9,9-双(3-氟-4-氨基苯基)芴；混合二酐为4,4'-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐，含砜基的3,3,4,4-二苯基砜四羧酸二酸酐，4,4'联苯醚二酐。经规范工艺制备得到的CPI膜在厚度为50～80μm时透光率大于等于90%，360℃下冷热伸缩比小于等于0.20%，并且能够可靠重复弯折或卷曲成180°[2]。
有关研究
电气设备的高频化趋势对绝缘材料的耐电晕老化性能及介电性能提出了更高的要求。因此，提高绝缘材料的绝缘性能对高频电力系统的发展至关重要。赵伟等人[3]以2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基苯基醚(6FODA)，4, 4'-二氨基二苯醚(ODA)，均苯四甲酸二酐(PMDA)为反应单体，设计制备了嵌段共聚型含氟聚酰亚胺(FPI)三层薄膜，并重点研究了材料的耐电晕性能和介电性能。结果表明：不同含氟量嵌段共聚型FPI三层薄膜的耐电晕寿命均高于纯聚酰亚胺(PI)三层薄膜，且随着含氟量的增加，薄膜耐电晕寿命相应增大。当ODA与6FODA摩尔比为1:9时三层薄膜的耐电晕寿命在常温(20℃)，80 kV/mm下最高可达4.0 h，是纯PI三层薄膜(1.4 h)的2.86倍。随着含氟量的增加，FPI三层薄膜的介电常数呈现先减后增趋势，ODA与6FODA摩尔比为1:1时三层薄膜的介电常数在1 MHz时最低可降至2.26，介电损耗与电导率呈现先增后减趋势。介电强度随着含氟量的增加有所下降，但均高于纯PI三层薄膜，ODA与6FODA摩尔比为9:1时，三层薄膜的介电强度高达434 kV/mm[3]。
参考文献
[1]金亚东,杨承翰,周玉波,等.一种聚酰亚胺树脂和一种透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法:CN201710726438.1[P].
[2]冷劲松,肖鑫礼,刘彦菊,等.用于柔性有源矩阵有机发光显示器的无色透明聚酰亚胺膜:202210160351[P].
[3]赵伟,宋吉祥,陈昊,等.含氟基团对聚酰亚胺耐电晕及介电性能的影响[J].复合材料学报, 2024, 41(5):2425-2435.DOI:10.13801/j.cnki.fhclxb.20230908.002.