半导体光刻工艺中，光刻胶涂布常因泡沫残留、流平不均引发针孔、缩孔、线条粗糙度超标等缺陷，直接影响晶圆良率。吉和昌生产销售的癸炔二醇 TL-J40A/J65A 系列（CAS号9014-85-1），以双子型非离子表面活性剂配方，精准破解行业痛点，为光刻胶体系提供高效解决方案。
TL-J40A/J65A核心成分为 2,4,7,9 - 四甲基 - 5 - 癸炔 - 4,7 - 二醇环氧乙烷加成物，凭借独特对称分子结构，实现润湿、消泡、分散三位一体，有效解决传统助剂 “润湿与消泡无法兼顾” 的问题。
其中TL-J40A（HLB=8）亲水亲油平衡，控泡性能优异，可快速降低光刻胶动静态表面张力，抑制泡沫生成并破除已有气泡，强基材润湿力确保胶层均匀铺展。TL-J65A（HLB=13）水溶性佳、浊点高，耐高温耐强酸，在光刻胶高温涂布与显影工序中稳定性强，长效维持流平效果。
两款产品严格契合半导体严苛要求，不含 APEO、重金属，低 VOC 无残留，符合 FDA 标准，不引入金属离子杂质，保障光刻胶纯度与晶圆良品率。与各类光刻胶体系相容性佳，无缩孔、鱼眼等副作用，添加量少即可显著提升胶层平整度与均匀性，优化线条边缘粗糙度。
吉和昌 TL-J40A/J65A 凭借优异性能可高效解决起泡、缩孔、流平差等问题，助力半导体企业提升工艺稳定性、降低生产成本，是光刻胶助剂的理想之选