光刻胶

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中文名称:光刻胶

产品类别: 分子砌块

光刻胶（photoresist）主要用于微电子技术中的微细图形加工，是电子工业和印刷工业的关键材料。其主要用途包括：

微细图形加工：光刻胶在光刻工艺中用于形成集成电路的图案，通过光照引发光化学反应，改变其在显影液中的溶解度，从而实现图形化。

选择性刻蚀或离子注入：光刻胶图形作为阻挡层，帮助实现选择性刻蚀或离子注入。

电子器件制造：光刻胶的性能直接影响到电子器件的性能和质量。

关键字：光刻胶;正性光刻胶;稀释剂;

苏州森鸿药业是一家集研发、中试生产、技术转让与技术服务于议题的高科技医药企业。公司多年来致力于糖类药物的研究开发与中试生产，在多糖类药物（肝素类、合成小分子肝素类、其他多聚糖类等）的研发方面处于国内、国际领先水平。主营产品：磺达肝癸钠，木聚硫钠，肝素，肝素类，依诺肝素钠，那屈肝素钙

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