达利雷生杂质，N-methyl-N-((1R,2R)-2-(methylamino)cyclohexyl)nitrous amide 新品

达利雷生杂质，
N-甲基-N-((1R,2R)-2-(甲基氨基)环己基)亚硝酰胺

N-methyl-N-((1R,2R)-2-(methylamino)cyclohexyl)nitrous amide 

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 达利雷生 (Daridorexant) 对照品
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达利雷生杂质主要分为工艺相关杂质、手性异构体杂质、降解杂质、中间体残留四大类，均源自合成路线（Boc 保护、酰胺缩合、苯并咪唑环合、脱保护、手性构建）与储存降解：

1. 手性异构体杂质：核心（S）- 构型吡咯烷环的对映异构体（R - 达利雷生）、非对映异构体，影响药效与光学纯度，为关键质控杂质

2. 工艺副产物杂质：Boc 保护 / 脱保护副产物、酰胺缩合不完全产物、苯并咪唑环合中间体、原料（5 - 氯 - 4 - 甲基苯二胺、三唑取代苯甲酸）残留、聚合 / 偶联副产物

3. 降解杂质：光照 / 湿热 / 酸碱条件下，酰胺键水解、三唑环开环、苯并咪唑环裂解、脱氯 / 脱甲基生成的降解产物

4. 基因毒性警示杂质：含氯芳香胺、亚硝胺类潜在警示结构杂质，需严格控制限度

我们的检测分析实验室，配备了LC-MS、液相、TGA、红外等多种国外进口检测设备，为研发保驾护航。

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针对不同性质的杂质，摩科提供精准的杂质适应环境（-80℃、-20℃、2-8℃），并采用不同的适配试剂瓶，确保杂质对照品在各种环境下的稳定存储。

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