三氟化氮(NF₃)是无色无味电子特种气体,氧化性强,常温化学性质稳定。作为半导体干法清洗、刻蚀核心气体,可清除晶圆腔体硅基残留物,也用于液晶面板制造。温室效应潜能极高,大气留存周期长,属管控温室气体;高温下可分解出有毒氟化物,操作需密闭排风并回收废气。
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九月