ArF (193nm) 光刻胶树脂共聚单体(核心用途)
常与 IPAMA(2‑异丙基‑2‑金刚烷基甲基丙烯酸酯)、GBLMA(γ‑丁内酯甲基丙烯酸酯)组成经典三元树脂体系。
金刚烷笼状结构:提供耐干法刻蚀、高 Tg 热稳定性;
分子上的羟基(‑OH)引入极性,调控树脂在显影液中的溶解性、溶解对比度,改善显影缺陷、抑制图案剥离 / 倒胶,提升成膜性与图形形貌。
它不是酸脱保护单体,属于极性调节单体,不随曝光产酸发生脱保护反应。
高性能特种丙烯酸共聚物砌块合成高硬度、高玻璃化温度、耐温、高耐蚀特种聚合物;用于光学涂层、介电膜材料。
科研开发实验室新材料合成,无医药原料药用途。
外观:白色类白色结晶粉末,熔点 89‑93℃
闪点:133℃
储存:25℃以下密封干燥避光,添加 MEHQ 阻聚剂,防止热自聚;电子级产品严控金属离子含量。
南通普罗维康生物科技有限公司
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