概述
贵金属催化剂由于其无可替代的催化活性和选择性，在包括有机合成在内的多种领域均有重要应用，钯催化剂在贵金属催化剂研究领域中一直占据着重要地位[1]。甲磺酸(三叔丁基膦基)(2'-甲氨基-1,1'-联苯-2-基)钯(II)（P(t-Bu)3 Pd G4）是一种外观为类白色至黄色粉末的有机金属衍生物，常用作贵金属催化剂。
在甲磺酸(三叔丁基膦基)(2'-甲氨基-1,1'-联苯-2-基)钯(II)的物质结构中，钯金属中心与三叔丁基膦配体、甲磺酸基（甲磺酸根）、以及2'-甲氨基-1,1'-联苯-2-基配体结合形成四配位结构。在该结构设计中，膦配体（三叔丁基膦）提供强电子供体效应，可以增强钯催化剂的稳定性与反应选择性。
有关研究
甲磺酸(三叔丁基膦基)(2'-甲氨基-1,1'-联苯-2-基)钯(II)作为性质优良的贵金属催化剂，不仅可用于基础有机研究，还可进一步作用于光学材料，印刷技术等领域。发光高分子(light-emitting conjugatedpolymers)以其优异的光电性能和溶液成膜特性，以及高分子所特有的力学性能，在柔性和印刷显示领域具有巨大应用潜力。然而，如何将发光高分子薄膜加工成高精度、微米级像素阵列，是实现发光高分子在印刷显示产业应用的关键。光刻(photolithography)是集成电路和半导体制造领域的核心环节，但传统光刻工艺需要用光刻胶，经过曝光、显影、刻蚀、清洗等至少六步才能制备一层图案，工艺复杂，并不适用于有机光电器件多层有机结构的构筑。因此，开发可直接进行高效光刻图案化的发光高分子材料，是溶液法印刷制备高分辨像素级显示阵列的重要途径。
为了解决上述问题，研究人员设计研发了一种侧链含叠氮基团的可光刻发光聚合物，通过在芴结构单元的侧链上引入叠氮基团，实现发光高分子薄膜的直接光刻图案化加工。具体的合成过程中，惰性气氛的气体为氮气或氩气，所选催化剂便是甲磺酸(三叔丁基膦基)(2'-甲氨基-1,1'-联苯-2-基)钯(II)，并以三甲基硅醇钾(简称tmsok)为碱性物质，碳碳偶联反应的温度为35℃，反应时间为72小时，碳碳偶联反应的有机溶剂为无水甲苯。经系列反应步骤得到的聚合物数均分子量为10000‑100000，兼具优异的光电性能和光刻胶性质，可直接通过紫外光刻工艺实现发光聚合物薄膜的光刻图案化[2]。
参考文献
[1]周春晖,李小年,葛忠华等,贵金属钯催化剂的研究现状和发展前景.
[2]白鲁冰,陆情情,高瑞,等.一种可光刻发光共轭聚合物,制备方法及应用:202411596263[P].