头孢呋辛亚砜；Cefuroxime Sulfoxide

头孢呋辛亚砜

• 联系方式：杜经理 TEL: 17320513646(微信同号)    QQ: 2853567688

• 
  

• 产品信息

• 产品编号：C022021

• 英文名：Cefuroxime Sulfoxide

• 英文别名：(6R,7R)-3-((氨基甲酰氧基) 甲基)-7-((Z)-2-(呋喃 - 2 - 基)-2-(甲氧基亚氨基) 乙酰氨基)-8 - 氧代 - 5 - 硫杂 - 1 - 氮杂双环 [4.2.0] 辛 - 2 - 烯 - 2 - 羧酸 5 - 氧化物

• CAS 号：无

• 分子式：C₁₆H₁₆N₄O₉S

• 分子量：440.38

• 优势

• 高纯度标准品：经 HPLC 检测纯度≥99.0%，通过 NMR（1H, 13C）、HRMS 及圆二色谱确证立体结构，适用于头孢呋辛（Cefuroxime）亚砜杂质的精准分析。

• 稳定性保障：在 - 20℃避光密封条件下储存，有效期达 36 个月，溶液状态（如乙腈 - 水）下 6 个月内降解率＜0.2%，确保实验数据可重复性。

• 应用

• 质量控制检测：用于头孢呋辛原料药及制剂中亚砜杂质的 UPLC-MS/MS 检测，控制杂质含量符合 ICH Q3A 标准（≤0.1%）。

• 工艺优化研究：在头孢呋辛合成或储存中，监测氧化副反应生成的 Cefuroxime Sulfoxide，通过调整反应温度（如控制在 5-10℃）和抗氧化剂用量，降低杂质生成量达 60% 以上。

• 方法学验证：作为标准品用于开发亚砜杂质检测方法，验证 UPLC 的分离度（≥3.0）和检测限（0.01 ng/mL）。

• 背景描述

• 头孢呋辛是第二代头孢菌素类抗生素，Cefuroxime Sulfoxide 作为其氧化杂质，可能源于生产过程中硫原子的氧化，或在光照、高温等储存条件下自发形成。该杂质的亚砜结构可能影响头孢呋辛的抗菌活性、稳定性及安全性。随着国际药品监管机构对药品杂质控制要求的提升，对这类氧化降解杂质的研究成为保障头孢呋辛质量的关键。

• 研究现状

• 检测技术：采用 UPLC-MS/MS 联用技术，以 C18 柱（1.7μm）和 0.1% 甲酸水 - 乙腈梯度洗脱，3 分钟内完成分离，检测限达 0.005 ng/mL，满足痕量杂质分析需求。

• 生成机制：研究表明，该杂质由头孢呋辛分子中的硫原子在氧气或过氧化物作用下发生氧化反应生成，优化反应体系的抗氧化条件（如充氮保护）和纯化工艺（如低温结晶）可有效抑制其产生。

• 安全性评估：体外抗菌活性实验显示，该杂质对大肠杆菌的 MIC 为 32 μg/mL（头孢呋辛 MIC 为 0.5 μg/mL），毒性较低但需控制限度≤0.1%。目前通过加速稳定性试验监控其在不同湿度、光照条件下的氧化速率。

TEL: 17320513646(微信同号)    QQ: 2853567688

备注：我们也可以定制相关类似物和修饰肽，提供包括高效液相色谱（HPLC）、质谱（MS）、核磁共振氢谱（1H-NMR）、质谱（MS）、高效液相色谱（HPLC）、红外光谱（IR）、紫外光谱（UV）、分析报告（COA）、物质安全数据表（MSDS）等资料。本产品仅用于实验室用途！