国产四甲基氢氧化铵25KG/袋，一袋起售

💾 半导体与电子工业（最主要用途——电子级TMAH）

• 光刻胶显影剂：IC集成电路、TFT-LCD、OLED及EUV光刻工艺中，2.38%（wt%）TMAH水溶液是正性光刻胶标准显影液，选择性溶解曝光区酚醛树脂，无金属离子污染，图形分辨率高。

• 硅各向异性蚀刻：用于MEMS微机电系统、TSV（硅通孔）、太阳能电池制绒，对Si(100)晶面优先蚀刻形成微结构（对比Si(111)选择性高），替代KOH避免K⁺污染CMOS工艺。

• 晶圆清洗/去胶：去除晶圆表面有机残留、光刻胶剥离（配合其他溶剂），以及清洗颗粒和微量金属杂质。

🧪 有机合成与高分子催化（工业级TMAH）

• 有机硅聚合催化剂：二甲基硅油、硅橡胶、硅树脂合成中的临时碱催化剂，反应完成后加热＞130℃即分解逸出无残留，不污染产品，优于NaOH/KOH。

• 相转移催化剂/强碱试剂：促进非均相亲核取代、烷基化、缩合反应；用于医药（巴比妥类、抗生素）、农药、香料中间体合成中的霍夫曼消除、酯交换等。

• 高分子材料助剂：丁基橡胶/有机硅树脂固化促进剂，聚酯缩合催化剂等。