C1:α- 甲氧基 \(\ce{-OCH3}\),糖苷端基
C2:\(\ce{-NHCOOCH2Ph}\)(Cbz 氨基,无羟基)
C3:\(\ce{-OCH2Ph}\)(苄醚 Bn)
C4:游离羟基 \(\ce{-OH}\)(未保护)
C5:环内氧相连碳
C6:\(\ce{-OCOPh}\) 苯甲酸酯
氨基保护:Cbz(苄氧羰基,弱酸 / 氢化脱除)
羟基保护:C3-Bn 苄醚(氢化脱苄)
C6 羟基:苯甲酰酯 Bz(碱水解脱除)
C4:游离羟基,可选择性修饰
CO[C@@H]1[C@H](NC(=O)OCc2ccccc2)[C@H](OCc3ccccc3)[C@@H](O)[C@H](COC(=O)c4ccccc4)O1
外观:白色结晶固体
溶解性
易溶:DCM、EA、THF、DMF、丙酮
微溶:甲醇、乙醇
不溶:水、正己烷、石油醚
稳定性与脱保护特性(正交保护)
催化氢化(Pd/C/H₂):同步脱 Cbz、脱 C3 苄基,保留 6 - 苯甲酸酯、C4-OH、C1 甲苷
稀碱(甲醇钠 / 氨水):仅水解 6 位苯甲酸酯,释放 C6-OH,Cbz、Bn 稳定
强酸:易水解 C1 甲基糖苷,糖环开环降解
比旋光度:具有特征右旋,α 型糖苷专属旋光
原料:甲基 α-D-2 - 氨基 - 2 - 脱氧葡萄糖苷(甲基 α- 葡糖胺苷)
C2 氨基选择性 Cbz 保护(NaHCO₃/ 苄氧羰基氯)
C3 羟基单苄基化(NaH/BnCl,低温控单取代,C4/C6 羟基暂保留)
C6 羟基选择性苯甲酰化(低温、1 当量苯甲酰氯,C4 羟基不反应)
水洗浓缩,乙醇 / 乙酸乙酯 - 正己烷重结晶提纯
C4 位苄基化二苄杂质
C6/C4 二苯甲酰双酯杂质
Cbz 过度酰化副产物
β 型端基差向异构体(甲基 β 糖苷)
氨基葡萄糖类糖化学砌块,用于糖肽、糖蛋白、糖苷酶抑制剂合成;
正交保护糖中间体,可分步选择性脱保护:
先碱解脱 6-Bz 修饰 C6;
或氢化脱 Cbz/Bn 修饰 C2 氨基、C3 羟基;
手性药物、杂环糖缀合物关键合成前体。
常温密封避光,避免浓酸(防止糖苷水解);
氢化脱保护需高压加氢设备,Cbz、苄基会释放甲苯;
碱性条件不可长时间加热,避免苯甲酸酯水解失控。
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