简介
氨基磺酸镍是氨基磺酸盐体系电镀镍钴合金的主要材料之一，氨基磺酸盐体系因其具有内应力低、主盐溶解度大、电镀和电铸速率快等优点，广泛用于精密电镀和镍钴合金电铸等工业领域。铁是控制氨基磺酸镍质量的重要指标之一，由于镍和铁同属第4周期第Ⅷ族，它们具有相似的物理和化学性质，并且在氨基磺酸镍产品中，镍含量为180 g/L，铁含量为（1~15）mg/L，镍含量是铁含量的1~10万倍，大量镍的存在会对铁的测定产生严重干扰。因此，现行国家标准《电镀用氨基磺酸镍》（GB/T 23847—2017）采用将铁和基体镍分离的方法，具体是通过乙酸乙酯将氨基磺酸镍中的铁萃取到有机相中，然后再用盐酸羟胺溶液进行反萃取，将有机相中的铁萃取到水溶液，然后水溶液中铁离子与1,10-菲啰啉生成橙红色络合物，最后通过比色测定。冯俊婷等采用基体匹配法消除基体效应，建立了直接测定氨基磺酸镍中铁含量的ICP-OES方法，该方法无需萃取分离，操作简便、快速、准确，适用于氨基磺酸镍产品质量控制[1]。
氨基磺酸镍的性状
用途
氨基磺酸镍用于低应力电镀镍，可降低镀层内应力并提高镀层质量。例如：对实际电镀条件下，氨基磺酸镍镀层具有低应力的现象进行应力理论分析，具有重要的实际意义。本文通过常用电解镍和含硫去极化镍阳极在不同的阳极状态下的镀液和镀层分析，确认了氨基磺酸镍的阳极氧化产物使镀层含硫及应力降低，并由一组氨基磺酸镍和瓦特镍镀层含杂量（不包括硫）、含氢量及织构的对比实验，从应力理论上解释了正常镀低应力氨基磺酸镍时其镀层应力低的原因。至于是何种物质使镀层含硫还有待于进一步的研究[2]。
参考文献
[1] 徐文柱. ICP-OES法测定氨基磺酸镍中的铁 [J]. 精细与专用化学品, 2022, 30 (11): 51-54. DOI:10.19482/j.cn11-3237.2022.11.13.
[2] 童修强.氨基磺酸镍镀层低应力的理论分析[J].电镀与精饰, 1989, 000(004):3-7.