负性光敏型电子树脂PB-NT-35/ PB-NT-40
用途:自身具备光敏性(负性),曝光后交联固化,未曝光区域可显影去除,无需干法刻蚀。适用于微图形化布线层、封装再布线层(RDL)、光波导结构等。
特性:介电常数低,工艺步骤少,图形精度高,适合多层布线。
北京光引聚合科技有限公司
联系商家时请提及chemicalbook,有助于交易顺利完成!